中国専利法第3次改正セミナー実務編開催の報告|お知らせ|オンダ国際特許事務所

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中国専利法第3次改正セミナー実務編開催の報告

(パテントメディア2010年1月発行第87号掲載)
営業企画部部長 佐藤隆

当所は、昨年4月に開催しました第1回の「中国専利法第3次改正セミナー」の続編として、昨年11月、名古屋(定員100名)、東京(定員100名)、大阪(定員100名)の3会場において「中国専利法第3次改正セミナー(実務編)」を開催しました。第1回セミナーの参加者を含め多くのお客様にご参加いただき、盛況裡に終了しました。 
このセミナーは、第1回セミナーで多くの方々からご要望もあり、改正法施行後に「実施細則」及び「審査指南」の解説を含めて再度セミナー開催することをお約束しておりました。
しかしながら、第2回セミナーは実務上のガイドラインであります「専利法実施細則」及び「審査指南」が公布・公表されないままでのセミナー開催となりましたが、基本的に大幅な変更はないと考えられる下記のポイントについて解説しました。

(1)中国で完成した発明又は実用新案を外国出願する場合の事前の機密保持審査手続き及びその具体的な機密保持審査の方法について、実務上要求される書面様式を用いながら説明しました。
(2)遺伝資源に関わる発明を特許出願するに際し、出願人が提出しなければならない「遺伝資源由来開示票」の記載方法や注意事項なども詳しく解説しました。
(3)特許・実用新案併願の方法と必要面、実用新案・意匠権の「評価報告書」の請求方法及び必要書面の記載方法などについても解説しました。
(4)意匠の簡単な説明の記載方法、平面印刷物に対する審査方法、類似意匠の出願方法など今後の戦略的なアドバイスを含めて説明しました。

「専利法実施細則」及び「審査指南」の公布・公表の遅れについての背景は不明ですが、中国専利出願人にとっては近々公にされるであろうこれらの内容を十分に理解しておく必要があるものと思われます。