対面・少人数で磨く、知財実務力

知財部門のご担当者の育成にあたり、次のようなお悩みはありませんか。

• 各法域の基礎を体系的に学ぶ機会が少ない
• OJT中心で、理解度やスキルにばらつきがある
• 業務が忙しく、基礎から指導する時間が取れない
• 法的背景の理解が十分でないまま実務を進めている

本研修は、こうした課題の解決を目的とした知財の基礎研修プログラムです。
講義形式で基礎からわかりやすく解説し、少人数・対面形式で理解を深めながら知識を身につけていただけます。

事務担当者向け研修も開催

また、8月以降は知財部門の新任事務担当者向け研修も開催いたします。
特許・商標事務に必要な基礎知識や実務上の留意点など、日常業務に役立つ内容を中心に解説します。

開催概要

募集コース	日程	内容
①特許基礎 【終了しました】	5月8日（金）	1　特許の流れ、特許要件（1）
	5月15日（金）	2　特許要件（2）
	5月21日（木）	3　審判、異議、訴訟、権利活用
	5月29日（金）	4　特殊出願、外国出願（PCT）
②意匠 【終了しました】	6月3日（水）	1　意匠出願の基礎知識（関連意匠・部分意匠等）
	6月12日（金）	2　外国意匠出願（ハーグ出願を含む）
③商標 【終了しました】	6月19日（金）	国内商標制度概要及び国内商標調査の基礎知識
④特許調査 【終了しました】	6月26日（金）	調査の種類、調査方法、演習
⑤特許実務 【満席】	7月3日（金）	出願1　特許法のおさらいと出願ワーク（1）
	7月10日（金）	中間1　特許法のおさらいと中間ワーク（1）
	7月17日（金）	出願2　特許法のおさらいと出願ワーク（2）
	7月24日（金）	中間2　特許法のおさらいと中間ワーク（2）
⑦特許実務 【満席】 ※内容は⑤と同一です。	７月２日（木）	出願1　特許法のおさらいと出願ワーク（1）
	７月９日（木）	中間1　特許法のおさらいと中間ワーク（1）
	７月１６日（木）	出願2　特許法のおさらいと出願ワーク（2）
	７月２３日（木）	中間2　特許法のおさらいと中間ワーク（2）
⑥知財事務 【満席】	8月28日（金）	国内1　特許制度概論・出願制度の基礎
	9月4日（金）	国内2　出願から登録までの手続・期間計算
	9月11日（金）	国内3　異議・審判等を含む出願後の管理
	10月2日（金）	外国1　外国出願概論・米国特許出願
	10月9日（金）	外国2　EPC出願・中国特許出願
	10月23日（金）	商標　商標制度概論・商標の管理と活用

 

会場

オンダ国際特許事務所 東京オフィス 会議室
（東京都港区赤坂1-8-1　赤坂インターシティAIR　32階）

形式

少人数制・対面開催

対象者

新任の知財実務担当者／事務担当者（異動者・新卒者を含む）

時間

各回14：00～17:00（13：30受付開始）
（都合により、終了時間が前後する場合があります）

参加費

本研修は新規実施プログラムのため、今期に限り参加費を頂戴いたしません。

定員

各コース限定10名（先着 / 事前申込制）
※1社あたり、各コースにつき2名までお申し込みいただけます（複数コースへのお申し込み可）。

注意事項

※定員10名を超えるお申し込みがあった場合、先着順でのご案内になりますので、お断りする場合があります。

※本研修へのご参加につきましては、弊所の都合により、やむを得ずご参加をお断りさせていただく場合がございます。あらかじめご了承ください。

※大変申し訳ございませんが、特許事務所や特許調査サービス事業者などの同業者様、および個人の方からのお申込みはお受けしておりません。

※申し込み完了後、受付メールが[email protected]のメールアドレスより自動配信されます。こちらのアドレスにご返信をいただいてもご回答はできませんのでご注意ください。