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知的財産トピックス

上海万博への商品出展に合わせた中国商標対策等について 【商標】

2010.4.7

2010年5月1日から10月31日まで、上海万国博覧会が開催されます。この機会を利用して日本の優れた商品・サービスのピーアールを行われる自治体や企業様も多いと思います。これまでマスコミで頻繁に報道されていますように、中国では第三者による不正な商標登録出願が相次いでいます。無関係な第三者が各種展示会、商談会に出展した商品のラベルやカタログをコピーし、そのまま商標登録出願を行ってしまうという事例も多々あります。このような不正な商標登録出願であっても、その商標が登録なされてしまえば、商標権侵害問題など種々のトラブルが生じるリスクが極めて高いといえます。

そのようなトラブルを回避するためには、中国での市場展開を目論むご自身の商品・サービスの商標について、適切な権利を確保することが不可欠です。中国での出展に先駆けて、他人による同一又は類似商標の出願や登録商標が存在しないかを事前に調査し、少なくとも出展時には商標登録出願を済ませておくことが必要です。

中国における商標権の取得や商標を巡る問題への対応策等については、当所上海オフィスと連携し、的確なご支援を申し上げます。具体的な商標調査、出願の手続をはじめ、中国の商標に関する講演なども承りますので、ご遠慮なくご相談ください。

お問合せ先: オンダ国際特許事務所 営業企画部
岐阜オフィス  担当:佐藤(Tel 058-265-1810)
東京オフィス  担当:谷尾(Tel 03-3356-9810)

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