ニュース&トピックス|特許業務法人オンダ国際特許事務所|岐阜市

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ニュース&トピックス

上海万博への商品出展に合わせた中国商標対策等について【商標】

2010年5月1日から10月31日まで、上海万国博覧会が開催されます。この機会を利用して日本の優れた商品・サービスのピーアールを行われる自治体や企業様も多いと思います。これまでマスコミで頻繁に報道されていますように、中国では第三者による不正…

中国専利法第3次改正 ~意匠編~

2009年10月1日から施行された中国専利法第3次改正のうち、意匠特有の事項についてお知らせします。 I.出願についての改正 1.意匠の登録要件(23条) 意匠の新規性等に関する登録要件が変更されました。 登録を受けることができる意…

スーダンがマドリッドプロトコルに加盟 【商標】

北アフリカのスーダンが、マドリッドプロトコルに加盟し、2010年2月16日より効力を生じます。同日より、国際登録願書又は事後指定書においてスーダンを指定することができます。 スーダンの加盟により、2009年12月11日より効力を生じたリベ…

中国専利法*改正(2009年10月1日発効)

*専利には、特許、実用新案、意匠が含まれます。 2010.3.8掲載 改正専利法が2009年10月1日に発効しました。実施条例(規則に相当)が未だ審議中であるため、手続方法等の詳細については後日追加される可能性がありますが、現時点で確定…

韓国 特許出願の優先審査制度の改正(2009年9月1日及び10月1日施行)

1)申請のための要件の変更 特許審査ハイウェイ(PPH)及び韓国特許庁の指定する専門機関に先行技術調査を依頼した場合を除き、優先審査申請時に、(1)自らが行った先行技術調査結果、及び(2)当該出願と先行技術文献との対比説明の提出が義務付け…

~『安室奈美恵』だけじゃない~ 有名人の名前が次々と餌食に 不正な商標登録の脅威 【商標】

あなたの「名前」が、見知らぬ個人や企業によって商標登録されていたら、とても不愉快に思われませんか? しかし今、中国では、日本の有名人の名前が、本人とは無関係の者によって数多く不正に商標登録されているのです。 そのカテゴリーは、タレント・ミ…

米国規則改正について(続報)

2007年11月1日に発効予定であり、その前日に暫定的差し止めが認められた改正規則(クレーム項数の制限(いわゆる5/25 Rule)及び審査支援書類(ESD)の提出、継続出願・継続審査請求(RCE)の回数制限、関連出願の情報開示)に関する裁…

リベリア共和国がマドリッドプロトコルに加盟 【商標】

西アフリカのリベリア共和国がマドリッドプロトコルに加盟し、2009年12月11日より効力を生じます。同日より、国際登録願書又は事後指定書においてリベリアトを指定することができます。リベリアの加盟により、マドリッドプロトコルの締約国数は80ヶ…

米国CAFCより、虚偽宣誓におけるフロードの認定基準に関する重要判決が出されました 【商標】

CAFC(米国連邦巡回控訴裁判所)が、Medinol事件におけるTTAB(米国特許商標庁商標審判部)のフロード(Fraud、詐欺、欺瞞)の基準を覆す判決を出しました(In re Bose Corp. Fed. Cir. Aug. 31, 2…

EPC規則改正(2010年4月1日発効)について

EPC規則が2010年4月1日に改正されます。改正内容は、以下の通りです。 1.分割出願時期の制限  2010年4月1日以降の出願、及び2010年4月1日時点で係属中の出願について分割出願を行う場合、これまで通り親出願が係属中であること…