2010年開催 セミナー・展示会のご報告|お知らせ|オンダ国際特許事務所

2010年開催 セミナー・展示会のご報告|お知らせ|オンダ国際特許事務所

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2010年開催 セミナー・展示会のご報告

(パテントメディア2011年1月発行第90号掲載)
営業企画部 部長 佐藤隆

オンダ(オンダ国際特許事務所・株式会社オンダテクノ)では、年間を通じて様々なセミナーの自主開催や展示会出展を行っております。これらのイベントを通じて、オンダが培った経験・ノウハウをご紹介させて頂くと共に、ご参加のお客様からのご意見・情報を日々の業務や新たなサービスに反映することによって、より一層お客様のお役に立ちたいと考えているからです。
そこで、2010年に開催致しましたセミナー・展示会の概要についてご報告します。

1.『すぐに役立つ「商標」の基礎知識(国内編)』 6月開催

2010年6月、オンダ国際特許事務所所長恩田誠を講師として、日本の商標制度の基礎知識に関するセミナーを開催しました(開催地:東京・名古屋)。両会場共約90名のご参加がありました。
このセミナーでは、商標法の基礎知識を始め、商標登録の重要性・商標の類否判断や商標調査の方法を具体例やクイズを交えて解説しました。また、出願書類作成時の注意点や具体的な手続のノウハウについても解説しました。とくに中間処理(意見書)については、実務者が直面する頻度の高い登録要件(第3条)・不登録事由(第4条)・商品や役務の記載(第6条)に関し、意見書の実例などを紹介しながら、反論の仕方について講義しました。さらに、企業における商標管理に関しても、自社商標の財産的価値を守り高めるための注意点などを解説しました。
なお、オンダでは、このような商標制度入門編のセミナーを毎年開催しており、知財部門の新入社員研修としてご活用頂いています。また、この講義内容をベースとして、お客さま向けにカスタマイズした出張個別セミナーも承っておりますので、ご用命頂ければ幸いです。

2.『知財業務・管理の効率化セミナー』 6月開催

2010年6月、所長恩田誠を講師として「知財業務・管理の効率化セミナー」を開催しました(開催地:東京・名古屋・大阪)。
2008年の世界金融危機に伴い、かつては聖域と言われた知財部門も例外なく、経費の削減を余儀無くされました。このようなことから、本セミナーは、オンダが特許事務所としての観点から、お客さまの経費削減に資するご提案をさせて頂くことを目的としました。本セミナーには、東京75名、名古屋・大阪で各40名のご参加がありました。
本セミナーでは、国内特許・外国特許・意匠・商標の実務に関する経費節減対策と、オンダで実施しております業務改善活動(QC活動)をご紹介しました。さらに、知財業務の目的である開発技術・製品を有効に保護することを前提として、如何に効果的・効率的に権利を取得し、コストを削減するかという観点からのご提案をしました。以下に、講演のポイントをご紹介します。

(1)国内特許関係

国内特許関係では、「実施技術を保護する権利を効率的に取得する」をテーマに、特に平成15年特許法改正(「発明の単一性」に関する)及び平成18年特許法改正(技術的特徴の異なる別発明への補正禁止)に着目した解説・提案を行いました。
平成15年特許法改正では、『二以上の発明が同一の又は対応する特別な技術的特徴(以下、STF=Special Technical Feature という)を有している場合に「発明の単一性」が認められる』との改正がなされました。これにより、特許請求の範囲に記載の各発明の全てについて、同一又は対応するSTFの存在が必要となりました。
また、平成18年特許法改正では、『特許請求の範囲の補正に際し、補正後の発明と、補正前に受けた拒絶理由通知において特許性の有無が判断された発明とが「発明の単一性」の要件を満たす一群の発明に該当している必要がある(いわゆるシフト補正の禁止)』との改正がなされました。これにより、従来は出願当初の特許請求の範囲の記載に基づき実施技術を含むように請求範囲を補正することが可能であったものが、平成19年4月1日以降の出願においてはSTF有りとの判断がなされた発明の発明特定事項を全て含む発明にしか補正することができなくなりました。
そして、こうした補正の制限が新たに加わったことにより、分割出願による対応しかできない場合が生じるようになるため、特許請求の範囲における発明特定事項の付加順序、すなわち請求項の記載順序について十分な配慮が求められるようになってきています。
そこで、本セミナーでは、STF有りと判断される発明が請求項の記載順序によって異なるものとなり、これによって補正可能な範囲が大きく左右される点を種々のケースを例に解説し、併せて平易な具体例に基づいて、実際の審査手順や、実施技術・回避技術を踏まえた適切な補正方法及びその際の注意点についても解説しました。
また、このような改正を踏まえて、出願業務における7つの対策を提案しました。
例えば、
(対策1)拒絶理由通知後に分割出願せざるを得なくなる(余分な費用が発生する)ことを回避するために、STFの有無を考慮した精度の高い先行技術調査を行うこと
(対策2)STFの有無を考慮した十分な先行技術調査ができていない場合には、チャレンジクレームの多用は避け、敢えて広いクレームにこだわりたい場合には発明の詳細な説明中にその権利範囲の広い概念を請求項形式(当所では付記という)で記載すると共に、これをサポートする事項を記載し、他社動向などから広い権利範囲が必要となった場合にこの付記を特許請求の範囲に記載して分割出願すること
(対策3)直列的従属関係を有するクレームでは実施予定技術に照らし重要度の高いと考えられる発明特定事項から順に記載するように付加順序を配慮すること
(対策4)知財部と設計開発部門との連携を密にし、出願後に実施予定技術に変更があった場合には請求項の記載順序を予め補正しておくこと等です。

(2)外国特許関係

外国特許関係では、コスト削減・早期権利化手段としてのPCT出願に着目して、PCT出願の手続やその利用の仕方・活用場面・メリットなどについて解説・提案を行いました。
外国出願においては、パリ条約に基づく優先権主張出願のように各国毎に権利取得する場合には、代理人費用・庁費用や翻訳費用が莫大になる上、市場の状況などの実際の権利化の要否を見極める前に出願を行うために、後に出願費用が無駄になったり、各国の法制度・審査基準の相違による手続対応や権利範囲に相違が生じたりするといった問題があります。
一方、PCT出願においては、国際段階を経てから国内段階に移行するので権利化までに時間がかかる、或いは余分に費用を要するといったデメリットもありますが、国際段階において特許性の判断材料が得られるというメリットもあります。
しかしながら、外国出願の目的・背景如何によっては、このメリットでデメリットを相殺できる場合があり、PCT出願を積極的に活用することの有為性も生じてきますので、以下のような利用方法・活用場面とメリットをご紹介しました。

利用方法1:国際段階における見解書等の利用

PCT出願では、国際段階で国際調査機関/国際予備審査機関により特許性の判断が示されます(国際調査見解書、国際予備報告)。これにより、次のような活用場面においてメリットが生じます。
活用場面1:発明の重要度や特許性の有無が不明である場合は、第一国出願として日本語でPCT出願を行う。
メリット1:国際調査見解書等により特許性の有無が判断でき、特許性の無い場合には国内段階への移行を見送ることにより、コスト削減を図ることができます。
メリット2:外国出願期限が国内段階移行期限(出願から30ヶ月)まで延長できるので、パリルートに比べ外国出願要否の見極め期間が長くなり、不要な外国出願を見送ることでコスト削減を図ることができます。
メリット3:日本語出願の場合には、日本国特許庁が国際調査機関となるので、国内の審査指針が得られ、STFを有するように特許請求の範囲を補正しておくことで実施技術を保護する有効な権利を確保できます。またこれによって補正書・意見書等の中間手続費用や余分な分割出願費用の削減を図ることができます。
その他日本語でPCT出願を行う場面として、日米欧で早期に同様の権利を取得したい場合があります。国際段階で特許性有りとの判断を得たときは、三極特許庁間での特許審査ハイウェイ(PCT-PPH)施行プログラムを利用することで、米国・欧州において通常のPCT出願より早期に権利化を図り、同様の審査結果を得やすくなるというメリットがあります。

利用方法2:英語によるPCT出願の利用

活用場面1:米国での発明の重要度が高い場合、英語で国際公開されるので米国特許法102条(e)に基づく先願の地位を得ることができ、国際出願日以降国際公開までの間になされた他人の米国出願を排除することができるというメリットがあります。
活用場面2:欧州特許庁を国際調査機関/国際予備審査機関に指定することにより、国際段階での審査結果がそのままEPC領域段階で適用されるので、一般に審査が遅いとされるEPC出願において早期権利化が図れるというメリットがあります。
なお、その他英語でPCT出願を行うメリットとして、自国に審査能力がない国では欧州特許庁の審査結果を利用する国が多いことから、それらの国で早期権利化を図ることができること、また英語で国際公開されるため要約だけが英語で公開される日本語PCT出願に比べて防衛効果が高まるというメリットがあります。
利用方法3:外国出願費用の削減、費用の先延べ
優先権主張を伴うPCT出願の場合は優先日から30ヶ月以内、優先権主張を伴わないPCT出願の場合には国際出願日から30ヶ月以内に国内移行手続きを行えば良いので、高額な外国出願費用を先延ばしすることができます。また、特許性や有用性を見極める期間に余裕ができるので、重要度の低い発明については外国出願を見送ることによってコスト削減を図ることができます。
なお、EPC出願と国別出願の特徴と手続や権利化に要する時間・費用などのメリット・デメリット、特許審査ハイウェイの活用についても解説しました。

(3)意匠関係

意匠関係では、製品開発と権利取得でのコスト削減・効率化と手続面でのコスト削減・効率化をテーマに解説・提案を行いました。

(1)製品開発と権利取得でのコスト削減・効率化

企業におけるデザイン開発には莫大な資金が投入されることがありますが、このような投資にも関わらず他社に巧妙に模倣されたり、参入を防止できなかったという経験から、意匠権取得の費用対効果が疑問視されることがあります。
しかしながら、これは当所会長恩田博宣による小誌(88号・89号)への寄稿文「意匠制度の潜在的可能性についての提言」にあるように、多くの知財関係者が意匠制度を付随的なものと捉え、「意匠の権利範囲は狭い」という誤認によるものと考えられます。
我が国の意匠制度では、製品全体のデザイン(意匠)のみならず、部品や部分の意匠や関連意匠も含めた総合的な意匠網(デザイン・ポートフォリオ)を構築することによって、特許権を凌駕するような範囲を有する意匠権を獲得することが可能です。
このような強大な意匠網を効率的・効果的に構築することこそが、デザイン開発から出願・権利化、さらには模倣対策・紛争などにおける無用な費用の低減につながり、コスト削減への近道であると考えます。
このような効果的な意匠網の構築には、周辺意匠の調査が不可欠です。
他社開発のデザインに加え周辺登録意匠の調査を行うことにより、以下のような効率アップ・コスト削減・時間短縮の効果が得られます。

1)  開発段階においては、開発可否・事業の方向性の判断や設計変更の要否・早期対応が可能になり、開発効率の向上・コスト削減につながる上、意匠権侵害等のリスクも回避できます。
2)  出願段階では、最小コストで最大効果が得られる強固で安定した意匠網を戦略的に立案することができ、出願コストの低減を図ることができます。
3)  権利化段階(中間処理)では、周辺意匠の登録状況・権利範囲を把握しておくことにより、無用な中間処理(補正書・意見書)対応の軽減、や中間対応の有益な資料にすることができ、早期権利化・手続コストの低減を図ることができます。
4)  権利化後においては、自己の権利範囲が明確になり、模倣者の参入の阻止と、模倣対策・紛争処理での早期解決が可能となります。
なお、オンダでは、意匠マップの作成サービスを提供致しておりますので、是非ご利用下さい。

(2)手続面でのコスト削減・効率化

手続面におけるコスト削減・効率化のポイントとして、以下の3つを提言しました。
1) 特徴記載書の活用
(a)斬新な意匠を創作して、意匠の範囲を広く確保したいときは、特徴記載書を活用することによって関連意匠出願の件数を減らし、出願コストを低減することができます。
(b)成熟分野へ参入する場合には、特徴記載書で意匠の細部の特徴を訴えることで登録可能性を高め、無用な中間処理手続を回避し、コストの低減を図ることができます。
(c)改変意匠の出願に際して特徴記載書を提出し、自社の先登録意匠で拒絶を受けることによって、改変意匠が先登録意匠の権利範囲に属するか否かを確認することができます。

2) 年金管理の見直し
意匠の範囲を広く安定的に保護するには、関連意匠の出願・登録が必要ですが、意匠の実施状況を考慮し、関連意匠権の維持案件(2年目以降の年金納付対象案件)を見直すことによってコストの削減ができます。

3) 関連特許出願への意匠の開示と分割・出願変更
関連する特許出願がある場合には、その特許出願中に意匠への出願変更を可能とする図面等を開示しておくことによって、以下のようなメリットを生じます。
(a)特許出願として権利化が困難或いは遅れそうな場合に、直接或いは分割して意匠に出願変更することにより、早期権利化を図ることができます。
(b)特許出願時には実施形状が未確定であって、後に実施形状が確定した場合は(特許を分割の上)意匠に出願変更することによって実施意匠を中心とした適切な意匠網の構築が可能となります。

(4)商標関係

商標関係では、権利取得・維持管理面でのコスト削減と、手続面でのコスト削減・効率化をテーマに以下の解説・提案を行いました。

(1)権利取得・維持管理面でのコスト削減

商標権は、企業や企業の取り扱う商品・サービスの顔となるものであり、重要な財産権の一つであります。商標権は、10年という長い権利存続期間であり、更新によって永続的に維持することが可能な権利です。
それ故に、企業における業容の変化など様々な要因から、権利範囲にムダ・ムラ・モレが生じ易いものです。
コーポレートマークを例にしますと、
ムダとは、将来に亘って使用しない態様・範囲の商標権を維持することであり、
ムラとは、使用範囲が同じなのに、関係する商標の範囲が異なるものであり、
モレとは、商標権の範囲が使用範囲をカバーしていない
ということです。
このようなムダ・ムラ・モレのない商標権の取得・維持管理には、ブランド体系(階層)を意識したブランド戦略が必要です。つまり、コーポレートブランドは、その下位にある事業部やカテゴリーのブランドを網羅する商標権が必要であり、また各事業部・カテゴリーのブランドは、その傘下にあるプロダクトのブランドを網羅する商標権が必要となります。
しかしながら、当所の経験では、意外にもこのブランド体系を意識した商標権の取得・維持管理が図られていないのが実態です。社歴が古く・保有商標が多い企業ほど、この傾向が強いように思われます。
そこでオンダでは、自社の保有商標とブランド体系を見直すという、商標ポートフォリオの整理を提案しました。
具体的なステップとしては、まずコーポレートブランドを筆頭に各事業部・カテゴリー・プロダクトのブランドを洗い出した後、保有商標の洗い出し、そして上記のムダ・ムラ・モレの観点から、商標権の更新見送り・放棄・譲渡、再出願や出願の統合などを図ります。
この商標ポートフォリオの整理により、更新費用の節約や管理の簡素化が可能となります。また、使用ブランドの適正保護と効率的な権利形成が図られ、企業防衛力の向上にもつながります。当所が係わった事例では、当初管理対象費用から再出願等に要した費用などを差し引いても、7百万円から1千万円の費用節減ができた案件もありました。
また、外国出願においても、日本ですでに登録され使用実績のある商標、特に世界共通のコーポレートブランドについては、マドプロ出願を利用することにより、コスト低減・維持管理が簡素化されるメリットがあります。

(2)手続面でのコスト削減・効率化

手続面でのコスト削減・効率化のポイントとしては、調査・出願・中間処理・登録・更新管理の各段階に分けてコスト削減・効率化のポイントを提言しました。
例えば、調査段階では、入念な商標調査を行うことにより、登録可能性の高い商標を採択でき、拒絶リスクを極小化し、早期権利化や無用な補正書・意見書費用の節約が図れます。また、事前に調査を行うことにより、有益な反論材料が入手できます。さらに、中間処理段階においても効果的・効率的な意見書の作成、商標権譲受交渉などの早期対応、早期権利化が可能になります。
また、出願段階では、適切な商品・役務を記載することが肝要です。審査基準に例示のない商品・役務については、過去の採択例の調査や、予め商品(役務)に関する説明書を提出することによって、無用な拒絶理由や補正書・意見書の提出を回避することが可能となり、コストの削減・早期権利化を図ることができます。
さらに、登録査定や更新の段階では、商標の使用予定や実際の使用状況をチェックし、登録区分・権利の維持区分や更新要否を見直すことによって、登録費用・更新費用の削減に加え、管理の簡素化を図ることができます。

(5)業務改善活動関係

当所が昭和60年から取り組んでいます、業務改善活動(QC活動)について、ご紹介しました。
全所員が、業務の質の向上やコスト低減・納期短縮など様々なテーマの下で活動に取り組んでいます。これらの活動は社外での発表の機会も多く、本セミナー終了直後に開催された「第3回JHS(事務販売サービス)部門の全日本選抜QCサークル大会」では、国際管理部の活動事例が金賞を受賞しました。
セミナーでは、当所のQCサークル活動のあゆみ、各部門の活動テーマのご紹介と合わせ、特に企業の知財部門にも関連する具体的な二つの活動事例をご紹介しました。
一つは、「17条の2第4項(シフト補正の禁止)に対応した特許明細書の品質向上」をテーマとするものです。QCストーリーに則り、現状把握・目標設定・要因解析・対策立案・対策の実施・効果の確認・標準化と管理の定着に至るまでの過程を、ご紹介しました。
二つ目は、「お客様の特別ルールに係る業務の作業時間短縮」というテーマについてご紹介しました。
オンダでは、業務改善活動全体を統括する改善推進室を設けています。改善推進室は、所内での業務改善提案とQC活動の進捗管理などを行うほか、近隣地区でのQCサークル活動の会合に参加して委員などを務めています。また、QC活動にご関心のある企業さまに対し、活動の導入についての指導・コンサルタントも行っておりますので、是非ともご用命頂ければ幸いです。

3.設計・製造ソリューション展(DMS展) 6月出展

2010年6月23~25日、「設計・製造ソリューション展2010(開催地:東京ビックサイト)」に出展参加しました。
特に今年は、知財関係ゾーンが初めて設置されたことから、オンダも初出展しました。会場来数者数は約85,000名で、当所ブースにも約200名の方々のご来場がありました。
当日は、「特許調査」、「特許分析」、「特許ポートフォリオディベロップメント(以下、PPDと略称します)」、「出前型知財教育研修」、「中国知財事情」の5つを柱として出展しました。また、ブース内での個別相談会には多数の方にご参加頂くなど、好評裡に終了しました。

オンダでは、様々な知財関係のコンサルティングサービスを行っておりますが、近年は特に「PPD」に注力しております。この「PPD」では、特許情報から「自社・他社の技術力・競争力」「技術動向」「市場環境」 等の分析を行い、新規分野への参入可否を判断します。そして、新規事業の枠組みをご提案し、特許戦略、特許ポートフォリオの創成をサポートします。「知財」「技術」「市場」という多面的な調査・分析を行うことによって、お客様の新規事業開発を支援し、「待ちの特許戦略」から「攻めの特許戦略」に転ずるお手伝いをします。
また、併せて展示出展の「出前型知財教育研修」についても、多くの方々から関心が寄せられました。この研修は、特許の基本から特許調査・分析に至るまでを、お客さまのニーズに応じてカスタマイズし、訪問して講義させて頂くもので、知財部門や開発部門における導入研修などにもご利用頂いております。是非ともご用命下さい。

4.バンバンセミナー 9月(聴講編),11月(体感編)開催

2010年6月及び11月には、「バンバンセミナー」(開催地:東京)を開催しました。
オンダでは、特許になる発明をバンバン生み出し、特許ポートフォリオを構築するためのコンサルティングサービスを提供しております。
このコンサルティングサービスでは、オンダの弁理士・コンサルタントが企業の研究開発部門・知的財産部門・営業部門の皆さんとの発明発掘・創出会議に参画し、課題である開発テーマやコア技術に基づいて、より多くの発明を発掘・創出するためのコンサルタントを行うものです。
そして、このサービスの内容をご理解頂くこと(聴講編)及び具体的事例によって実際に発明の発掘・創出を体感(体感編(有料))して頂くためのセミナーが「バンバンセミナー」です。聴講編には70名、体感編(有料)には12名のご参加がありました。
聴講編では、会長恩田博宣から「特許情報の活用と意匠戦略」のテーマで、研究開発に役立つ特許情報の活用ノウハウと意匠登録の有効な活用法について、また、所長恩田誠からは「経営に資する知的財産活動と知財戦略」のテーマで、開発を支援し企業に利益をもたらす知財ポートフォリオについてそれぞれ解説しました。さらに、オンダの知財戦略支援部の松尾健司コンサルタントからは「発明創出とコンセプト創出のための特許活用」のテーマで、発明創出に役立つ特許情報の調査分析手法と新製品コンセプト創出事例をご紹介しました。
体感編では、所長恩田誠が「特許ポートフォリオ構築のすすめ」と題して、事業を防衛し、さらには攻めに転ずるための参入障壁・特許ポートフォリオの構築について解説した後、「発明創出を体感するブレインストーミング」の実習を行いました。この実習では、具体的なテーマに基づき、アイデアの創出を体験して頂きました。このようなアイデア創出の会議では、これまでオンダが発明発掘のインタビューで培った発明展開理論などに基づいた助言によって、充実した多くの発明が提案されました。

5.外国意匠セミナー 11月開催

2010年11月9、11日、所長恩田誠を講師として「外国意匠セミナー(海外で意匠権をとろう)」(開催地:東京・岐阜)を開催しました。
このセミナーでは、外国意匠出願の実務経験の浅い方を対象に、中国・米国・EU・韓国・台湾の主要5ヶ国における意匠制度の概要、具体的事例による出願時の注意点等をご紹介しました。これら主要5ヶ国は、当所での取扱い件数も多く、模倣品の製造・流通ルートとして課題の多い国・地域でもあります。
セミナーでは、特に重要な注意事項についてケーススタディによって解説しました。また、中国・韓国における法改正の内容や、改正予定事項についてもご紹介しました。

6.外国商標ベーシックセミナー 11月開催

2010年11月24~26日、弁理士鶴久留美及び上海オンダ商標事務所代表夏宇を講師として「外国商標ベーシックセミナー」(開催地:東京・名古屋・大阪)を開催しました。
このセミナーでは、マドリッドプロトコル(マドプロ)による商標出願のメリットを最大限に利用し、低コストで外国商標ポートフォリオを構築する手法をご紹介しました。
外国での商標権取得の手段として重要な選択肢であるマドプロによるコスト削減のメカニズム及びその実践的な活用方法、中国を指定国とするマドプロ出願の注意点について具体的に解説しました。

7.その他共催セミナー・受託セミナー

オンダでは、当社主催によるもののほか、他社との共催や委託によるセミナーも多数開催しております。
2010年2~3月には、富士通株式会社との共催による「特許情報活用セミナー」を開催しました。
また、近年農林水産分野における知的財産権の活用が重要視されるようになっています。その中で所長恩田誠は、国や多くの自治体、地域の事業者団体からの委託・要請を受け、農林水産分野における知的財産、農林水産物の海外輸出と知財戦略、種苗法と商標法などについて日本各地でのセミナー講師を務めました。

オンダでは、2011年も前年度に引き続き原則無料セミナーを数多く企画開催して参ります。ご関係の皆様には、その都度詳細ご案内を差し上げますが、併せて当所のホームページでもセミナー開催を告知しております。是非当所HPをご訪問頂き、セミナー内容をご確認の上多数の皆様にご参加頂くようお待ち申し上げています。