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知的財産トピックス

「【中国知財セミナー】
中国・日本の特許実務における相違点」セミナー終了のご報告

2016年3月30日

セミナー写真

2016年のセミナー第1弾として開催いたしました「【中国知財セミナー】中国・日本の特許実務における相違点」セミナーには、名古屋(3月11日)、東京(3月18日)、大阪(3月25日)の3会場で、総計150名を超える皆様にご参加をいただきました。年度末のお忙しい時期に、足をお運びいただきました皆様、ありがとうございました。

以下に、セミナー参加者の皆様からいただいた感想の一部をご紹介します。

【セミナーについてのご意見・ご感想(抜粋)】

■記載のないルールや経験に基づく解釈を聞くことができて非常に有意義でした。
■中国の法、規則処理について、説明が日本との相異をセットにされており、理解し易かったと思います。
■補正の禁止事項がわかりにくいと感じていたが、実務通例も併せて説明いただき、理解できました。
■中国実務のポイントがよくまとめられていて、わかりやすい講義でした。実際にご経験された実務の事例なども貴重なお話しで、イメージをつかむのに大変役に立ちました。
■法律、実務、凡例と盛りだくさんでしたが、非常にわかりやすかった。
■日本・中国の両方の実務をされている方の講演で、両国の相違点を明らかにした説明をいただき、企業内、実務担当者としての疑問をよく解説することができたと感じます。
■中国知財を熟知した上で、日本の制度と比較した内容は、中国制度の理解を深められた。今後はさらに注意が必要な国であるので、またの機会も参加したい。
■とてもわかりやすいご講義でした。大変面白かったです。特に中間手続(拒絶理由)の現状が垣間見え、とても興味深かったです。
■日本出願人の目線をもとに、テキストが構成されていることが意識でき、これからの中国出願を考える上で大変助かります。

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